實驗室名稱(編號):
半導體光譜實驗室 Semiconductor Spectroscopy Lab.
實驗室負責人:
謝振豪 副教授
實驗室簡介:
半導體在近代科技上扮演著重要的角色,以此為基礎發展出來的電晶體更是影響了我們的生活,而最近的光電產業中,半導體所發展出來的雷射、發光二極體及光偵測器等等更扮演著舉足輕重的地位。而因磊晶技術的進步,使我們有更多樣的材料結構可供研究。氧化鋅(ZnO)是目前已知的II-VI族半導體材料中在室溫中擁有寬能隙(3.37 eV)和相當大的激子束縛能(60 meV),在做為應用的光學元件上是非常有潛力的預備材料。目前在應用上,藍、綠光LED的主流材料是氮化鎵(GaN),其激子束縛能約24 meV,但因室溫熱能約26 meV,所以藍、綠光LED發光的機制為電子電洞電漿(Electron-hole plasma, EHP) 再結合,而想要產生EHP需要較強的激發源。另一方面,氧化鋅的激子在室溫中還是能穩定地存在,將氧化鋅應用在光電元件上,因為激子躍遷的量子效率較高,因此就不需要太強的激發功率。
本實驗室以高功率紫外光雷射為光源,用來進行寬能隙化合物半導體氧化鋅的光致螢光光譜(Photoluminescence, PL)的研究,不但可以檢測材料的磊晶品質,也可以從強激發光致螢光光譜的分析了解元件的激子發光機制,為半導體光學量測中重要的技術。另外,當寬能隙化合物半導體處於群數反轉的狀態時,會產生受激發光光譜(Stimulated Emission),處於此狀態下的半導體的光學特性與正常狀態下的特性不同,受激發光光譜的分析可以幫助半導體雷射的開發,提供一個有用的工具。本實驗室可利用高功率紫外光雷射研究寬能隙化合物半導體氧化鋅(ZnO)的受激發光的發光機制。另外,II-VI族半導體氧化鋅(ZnO)材料為一極性材料,材料中光學聲子(Optical phonon)的效應會比III-V族半導體材料更為明顯。本實驗室以光致螢光光譜為工具,研究氧化鋅中光學聲子與發光機制之間的關係。
實驗室儀器介紹(文字含圖片):
光源系統 |
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Nd:YAG雷射系統+倍頻組 |
氙氣燈源 |
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*重要規格:(1)Pulse width :10 ns (2) Repetition rate: 20 Hz (3) Pulse energy 340 mJ (4) Jitter ±1.5 ns (5) 1064, 532, 355, 266- nm |
*重要規格:350 W |
NeCu雷射(DUV laser) |
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*重要規格:(1)Pulse width :20~80 ms (2) Repetition rate: 1~20 Hz (3) 248.6-nm |
量測系統 |
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光譜儀及CCD |
短距分光儀 |
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*重要規格:(1) Focus length 32-cm (2) f/4.1 aperture ratio (3) Grating 600, 1200 and 2400 grooves/mm |
*重要規格:(1) Focus length 15-cm (2) Grating 150 and 2400 grooves/mm |
變溫系統 |
低温系統暨真空泵浦系統 |
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*重要規格:10-300 K |
薄膜製程與高溫退火系統 |
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電子天秤 |
塗佈旋轉機 |
高溫爐 |
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*重要規格:10-300 K |
*重要規格:10-300 K |
*重要規格:25-1100 K |
實驗室成員(歷屆~迄今):
大學部
年度 |
學生 |
98級 |
蘇韋綾、許紘彰、匡建勳、林冠宇、張峻偉 |
99級 |
賴韋辰、蕭瑄毓、許智瑜、蔡鎮宇、阮家治、張明睿 |
100級 |
陳昊、侯尚延、林坤政、蔡逸凡、蘇于巧、陳玟琳 |
101級 |
黃詩涵、陳宗澤、江國禎、陳宇宏、蔡承佑、莊承翰、黃俊維、李建德、張書豪 |
102級 |
林真豪、李怡婕、紀博程、卓宥男、王舜鴻、林鴻安 |
103級 |
劉律慈、邱沛儒、郭馥萱、張哲晟、張雅茵 |
104級 |
鄒勝傑、楊宗佑 |
碩士班
年度 |
學生 |
研究題目 |
99級 |
賴彥傑 |
以溶膠凝膠法製作氧化鋅摻鎂之光學性質分析 |
100級 |
陳俊男 |
氧化鋅鎂化合物半導體之激子特性 |
101級 |
蔡宛君 |
以溶膠凝膠法製作氧化鋅薄膜之光學特性研究 |
102級 |
蔡逸凡 |
氧化鋅鎂合金之電子-聲子交互作用研究 |
103級 |
顏敏修 |
氧化鋅薄膜的非彈性激子-激子散射發光之研究 |